Китайская государственная компания приступила к производству первых отечественных установок иммерсионной DUV-литографии — одного из ключевых типов оборудования для выпуска современных полупроводников. По имеющимся данным, в течение 2026 года планируется изготовить около пяти таких систем, а в 2027 году объем производства может вырасти примерно до двадцати установок. Первыми заказчиками должны стать крупнейшие китайские производители микросхем, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителя памяти CXMT.
Несмотря на значимость этого события для китайской полупроводниковой отрасли, эксперты призывают не делать преждевременных выводов. По их словам, создание нескольких рабочих образцов — лишь первый этап, тогда как главная задача заключается в обеспечении стабильной эксплуатации оборудования в условиях круглосуточного серийного производства. Именно надежность и длительная бесперебойная работа остаются главным преимуществом литографических систем ASML.
Аналитики также напоминают, что подобные заявления о технологическом прорыве Китая уже звучали ранее, однако не всегда подтверждались на практике. Кроме того, китайские производители продолжают активно закупать оборудование ASML там, где это еще возможно. По данным Bank of America, только в марте импорт оборудования для производства микросхем в провинцию Аньхой достиг 226 миллионов долларов, причем более половины этой суммы пришлось именно на литографические системы.
При этом эксперты считают, что в долгосрочной перспективе наибольшее влияние на позиции ASML может оказать не китайская конкуренция, а политика США. Рассматриваемый в Конгрессе законопроект MATCH Act предусматривает дальнейшее ужесточение ограничений на поставки и обслуживание оборудования для стран, признанных стратегическими соперниками. Если такие меры будут приняты, китайским компаниям придется ускорить разработку собственных технологий и отказаться от технической поддержки голландского производителя.
По мнению специалистов, Китай вряд ли попытается создать прямой аналог ASML в виде одной корпорации. Более вероятным сценарием считается формирование целой экосистемы специализированных компаний, которые будут совместно развивать литографические технологии. Пока же китайская промышленность по-прежнему ограничена DUV-литографией, поскольку доступ к самым современным EUV-системам остается закрытым из-за действующего экспортного контроля.
