Китайские производители полупроводников нашли способ обойти западные санкции, модернизируя устаревшие литографические сканеры ASML с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV). Согласно данным аналитиков и инсайдеров, такие компании, как Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) и Huawei, используют этот подход для производства 7-нм чипов, подходящих для современных задач ИИ.
Санкции США и Нидерландов запрещают ASML продавать в Китай самые передовые литографы с экстремальным ультрафиолетом (EUV) и последние модели DUV-оборудования. Однако китайские заводы легально владеют более старыми системами, такими как ASML Twinscan NXT:1980i. Покупая на вторичном рынке улучшенные компоненты — платформы для пластин, оптику и датчики — инженерные фирмы модернизируют это оборудование на месте, повышая его точность и производительность.
Это позволяет применять метод многократного экспонирования (multi-patterning) для создания структур, которые обычно требуют EUV-литографии. Процесс остаётся дороже и медленнее, но модернизация помогает компенсировать часть недостатков.
ASML заявляет, что соблюдает все экспортные ограничения и не участвует в подобных апгрейдах. Тем временем США изучают, как китайские заводы получают поддержку для оборудования ASML, и рассматривают ужесточение правил, включая ограничение обслуживания уже поставленных машин.
Для ASML Китай остаётся ключевым рынком — в 2024 году на него пришлось более трети выручки компании. Однако эксперты отмечают, что модернизация устаревшего оборудования не может полностью заменить доступ к передовым технологиям TSMC или Samsung. Тем не менее, прогресс Китая показывает, что санкции могут замедлить, но не остановить его развитие в полупроводниковой отрасли.
